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乾瞻 UCIE 2.0 SoIC 製程設計定案 3D 堆疊異質整合高速互連

2025-07-18
分類 : 未分類
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rawpixel.com

文/神盾

神盾集團旗下、專注於高速半導體矽智財(IP)的乾瞻科技(InPsytech),近日正式宣佈完成符合 UCIE 2.0(Universal Chiplet Interconnect Express)標準的台積電(TSMC)Face-to-Face SoIC 先進製程設計定案,成功實現異質整合晶片的高速互連能力。

此次設計採用 TSV(Through-Silicon Via)技術以實現訊號傳輸與電源供應,不僅大幅提升 3D 堆疊異質整合晶片的設計彈性,也強化整合效能。為協助客戶加速從設計至量產的導入過程,乾瞻同步推出對應 TSMC SoIC 先進製程的完整晶圓級(Wafer-Level)與封裝級(Package-Level)設計驗證解決方案,加速 IC 設計公司晶片開發與驗證的流程。

繼日前加入英特爾晶圓代工加速 IP 聯盟(Intel Foundry Accelerator IP Alliance)與三星 SAFE™(Samsung Advanced Foundry Ecosystem)IP 計畫後,乾瞻已為英特爾與三星的 IP 夥伴,並陸續將自家先進產品導入兩大晶圓廠生態系統,以協助客戶強化其先進半導體產品競爭力。此 3D 異質整合與高速互連的設計,特別適用於高效能運算(HPC)伺服器與邊緣 AI 裝置,可有效提升 AI 推論與資料處理效率,滿足低延遲與高頻寬需求。

乾瞻科技總經理羅時豪表示:「乾瞻始終秉持技術導向的核心理念,也以與產業內的合作夥伴共同努力為榮。此次順利完成設計定案,除自身團隊的投入外,更要感謝半導體產業合作夥伴,這也代表著客戶對乾瞻技術實力的高度肯定。」

乾瞻科技將持續以技術創新為驅動核心,不僅深化與海內外團隊的協作,也致力於服務全球客戶,共同打造更先進、卓越的科技環境。

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