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迎戰 AI 能源戰爭 蔡力行:四大技術力拚十年百倍能效增長

2026-02-23
分類 : 產業速報
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迎戰 AI 能源戰爭 蔡力行:四大技術力拚十年百倍能效增長

◤聯發科技執行長蔡力行日前在2026 ISSCC 國際固態電路會議發表專題演講,剖析半導體產業如何應對日益激增的AI運算需求。(圖/聯發科技提供)

彙整/鄭宜芬


面對生成式 AI 帶來的「能源戰爭」,聯發科技執行長蔡力行日前在 2026 ISSCC 國際固態電路會議發表專題演講,剖析半導體產業如何應對日益激增的AI運算需求。他表示,能源依然是至今推動創新最大的限制,但也是推動創新的催化劑。產業必須從單一晶片轉向系統級的機櫃(Rack)優化,以追求極致的總持有成本(TCO)效益。透過設計技術協同優化(DTCO)、記憶體技術、高速傳輸及先進封裝等四大技術支柱,他期許在未來十年實現 100 倍的「每瓦效能」提升,讓 AI 運算邁向普及。

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◤2026 ISSCC 國際固態電路會議在美國舊金山登場。(圖/聯發科技提供)

AI 運算需求 應對指數級增長的挑戰

蔡力行指出,機器學習自 2012 年起因擁有充足的運算能力而開始興起,隨後在 2022 年末進入生成式 AI 時代。這種演進形成了一種循環:強大的運算能力催生了更優質的模型,而模型規模的擴大又回頭要求更強大的運算支撐。

傳統的摩爾定律(Moore’s Law)已難以滿足這一指數級的增長需求。蔡力行強調,在 2010 年代之前,摩爾定律運行良好,但現在運算能力的改進速度已變成每 18 個月翻倍都不足以填補缺口。隨著推論(Inferencing)需求的加入,這一缺口將進一步擴大。這推動了所謂的「AI 經濟」,雲端服務供應商(CSPs)與超大型資料中心(Hyperscalers)正投入驚人的資本支出(Capex),預計未來三至五年內,資料中心相關支出將以 25% 的年複合成長率(CAGR)攀升。這股浪潮將推升半導體產業營收在 2026 年前後跨越一兆美元的大關。

能源戰爭 創新最大的限制與催化劑

然而,這場 AI 競賽面臨著嚴峻的挑戰:能源戰爭。

資料中心的建設速度驚人,相關資本支出年增率約達25%。蔡力行舉例,一座大型資料中心園區約由10座資料中心組成,每個中心消耗 500 百萬瓦(MW)的電力,園區總計高達 5000 百萬瓦;相比之下,整個舊金山市每天僅需約 1000 百萬瓦(1 GW)的電力。

各國正積極擴充發電基建,包括利用太陽能、風能等多元能源填補缺口,但能源屬於結構性問題,競爭勢不可免,亟需重大技術創新因應。

蔡力行認為,能源依然是至今推動創新最大的限制,但同時也是最重要的催化劑。為了支撐 AI 經濟,產業界必須在兩大核心指標上取得突破:「每瓦效能」(Performance per Watt)與「每單位整體擁有成本效能」(Performance per TCO)。唯有讓運算成本大幅降低,讓 AI 代幣(Tokens)像現今的網路頻寬一樣廉價且普及,AI 才能真正融入大眾生活。

從晶片到機櫃 系統級的異質整合

應對 AI 需求的方法正在發生結構性的轉變。蔡力行表示,聯發科技及其合作夥伴正將視野從單一晶片或智慧財產權(IP)轉向系統級的解決方案,即「資料中心機櫃(Rack)」級別的優化。

在機櫃系統中,AI 運算架構呈現出終極的「異質整合(Heterogeneous Integration)」。核心是 AI 運算加速器(XPU),可以是 GPU、TPU 或其他形式,並由 CPU 負責控制、DPU 負責管理數據流。這些組件必須協同工作,並具備高度複雜的封裝技術與高頻寬記憶體(HBM),才能提供所需的運算指標。

此外,共同封裝光學(CPO)技術亦是未來關鍵,透過光學互連提升傳輸效率,將是實現AI高速度、低功耗運算的關鍵。

四大關鍵技術

  • 運算創新與設計技術協同優化(DTCO):

隨著製程從 4 奈米推進至 1.4 奈米,電晶體密度增加了約 2.5 倍。透過 DTCO,設計與製程技術的協作能產生額外效益,有時甚至能優化出相當於「半個製程節點」的領先優勢。此外,透過調降工作電壓(VDD),例如從 0.55V 降至 0.445V,可將每瓦效能提升兩倍。

  • 記憶體技術的突破:

在 AI 運算系統中,記憶體成本佔據了物料清單(BOM)的 50%。為了應對推論需求,除了高頻寬的 HBM 外,DDR 記憶體乃至靜態隨機存取記憶體(SRAM)將變得更為盛行,以追求更高的容量與更低的成本。此外,「記憶體內運算(Compute in Memory)」或「近記憶體運算(Compute near Memory)」等新架構,將提供更低的功耗與更高的吞吐量。

  • 高速傳輸(Interconnect):

蔡力行將傳輸形容為一種「稅收」,因為數據在晶片間、機櫃間的移動都會消耗延遲與電力。因此,極高速且低功耗的傳輸技術至關重要,業界正熱烈討論共同封裝光學(Co-packaged Optics)等未來技術,以解決 400G 或更高等級的傳輸瓶頸。

  • 先進封裝技術:

隨著晶片變得更大、更複雜,封裝技術已成為關鍵動能。2.5D 封裝(如 CoWoS)將持續引領潮流,預計到 2030 年,封裝尺寸可能達到 10,000 至 20,000 平方毫米。藉由3D堆疊技術以及更佳的散熱與供電管理,才能有效支撐極度密集的運算需求。

蔡力行最後指出,目前的技術路線圖大約能引領產業走到 2030 年,但在此之後,人們需要更多的創新技術。他最後提及半導體未來願景,期許在未來十年內實現:40 倍大的光罩尺寸、20 倍高的頻寬密度、20 倍好的供電效率。如果這些目標得以達成,將實現每瓦效能提升約 100 倍的目標,讓AI真正普及,並真正造福人類社會。


(本文授權非營利轉載,請註明出處:CIO Taiwan)

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標籤: AI製造業
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