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新的VeritySEM 10系統提供了領先業界的解析度和成像速度,協助晶片製造商加速製程開發,並

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應用材料公司Centura Sculpta圖案化系統,可協助晶片製造商以更少的EUV微影步驟生產高效能的電晶體和內連佈線,進而降低先進晶片製程的成本、複雜性和環境影響性。
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嶄新的Centura Sculpta圖案化系統為EUV雙重圖案化技術提供了更簡單、更快速、更具成

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應用材料公司發表最新的永續報告書,概述公司在減少碳足跡和提升環保報告透明度所做的努力 應用材料公

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7/28 活動延期通知

因高雄市政府於7/28早上宣布全日停班停課,因此「智慧醫療研討會高雄場」活動延期舉辦。主辦單位將另行公告研討會相關訊息,歡迎報名參加!

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